アートフラッシュニュース

アーカスプロジェクトのレジデンスプログラムは、現代アートの分野で活動する新進アーティストに、作品の構想力や創造性を養う機会を提供しています。東京から約 1 時間という場所に位置するアーカススタジオでは、日本の現代アートシーンに触れることができるとともに、落ち着いた環境で一般市民とも交流しながら創作活動に専念することができます。また、定期的なキュレーターとのチュートリアルとコーディネーターによるサポートをとおして、アーティストは、自らの制作における方法論を探求し、新たな表現に挑戦することができます。
本プログラムは、リサーチに重きを置いた実践を重視しており、制作過程で生み出される試作をオープンスタジオで公開します。人や土地、文化との出会いを糧にし、国際的な批評空間へと開かれていくようなプロジェクトや作品のアイデアを歓迎します。

応募締め切り

2020年5月12日(火) （必着・郵送のみ受付）
＊締切超過した場合は受け付けません。
＊メールや FAX での応募は受け付けません。

プログラム期間

2020年8月27日（木）〜12月4日（金）（100日間）
＊上記スケジュールは変更になる可能性があります。
＊2020年12月から2021年2月までのうち、1ヶ月程度、茨城県北地域での短期滞在型アートプロジェクトへも参加できることが本プログラムへの応募条件です。詳しくは募集要項をご覧ください。

公募人数

1名/組（他の公募により選ばれる外国籍アーティスト2名/組と同時期に招聘）

応募資格

・1980年1月1日以降生まれであること。
・日本国籍を有し、日本国内在住であること。ただし、応募時に海外在住であっても、本プログラムが始まるまでに帰国している者は応募可。
・上記プログラム期間中に教育課程に在籍していないこと。ただし、博士課程在籍中の者は応募可。 ＊グループ等複数人での応募も可能であるがその場合、1グループを1アーティストとみなし、助成内容などは全て1名分の支給とする。

助成内容詳細、応募方法

詳細はウェブサイトをご覧ください。
http://www.arcus-project.com/jp/residence/